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浏览:- 发布日期:2025-07-02 14:02:22【

岑升波陈辉刘艳马元明吴影

西南交通大学材料科学与工程学院, 成都 610031

摘要

采用超音速火焰喷涂在Q345基体上制备了微米WC-12Co, 纳米改性WC-12Co和CeO2改性WC-12Co涂层, 利用SEM, XRD和显微硬度计等手段观察表征了涂层的微观组织、相成分和显微硬度, 通过LSCM, SEM, 极化实验和浸泡腐蚀实验等方法研究分析了涂层在1 mol/L H2SO4溶液中的腐蚀行为和腐蚀机理. 结果表明: 纳米CeO2的加入可以显著降低涂层的孔隙率, 有效减少局部腐蚀的发生; 同时添加纳米CeO2可以使涂层电极电位发生正移, 降低腐蚀电流密度, 生成稳定的钝化膜, 降低涂层的维钝电流密度, 提高涂层的耐腐蚀性能; 纳米CeO2改性WC-12Co涂层的腐蚀机制为由孔隙诱发的局部腐蚀, 孔隙处的Co黏结相不断被腐蚀导致WC颗粒失去了支撑作用而脱落, 从而露出新的Co黏结相, 促进了涂层的腐蚀, 使孔隙不断扩大形成腐蚀坑. 而微米WC-12Co涂层和纳米改性WC-12Co涂层不仅最外层的Co黏结相被腐蚀, 而且在孔隙处也发生了严重的局部腐蚀.

关键词: 超音速火焰喷涂, WC-12Co涂层, 纳米CeO2, 极化曲线, 浸泡腐蚀

在化工化纤、石油、电力和煤矿等领域的机械零部件中, 腐蚀和磨损是导致这些部件失效的主要原因[1], 采用镀铬技术可有效进行表面防护, 但其镀铬所产生的含铬废液会带来严重的污染问题. 超音速火焰喷涂(high velocity oxygen fuel, HVOF)技术是20世纪80年代研发出的热喷涂技术, 具有喷涂速率高和喷涂温度较低的优点, 常被用来制备WC-Co系涂层, 所制备的涂层孔隙率低, 与基体的结合强度高, 涂层的耐磨性、耐蚀性和耐高温性能优异[2,3], 被广泛应用于零部件的表面防护. 目前超音速火焰喷涂WC-Co系涂层已成功替代镀铬技术[4], 成为多个领域中防腐耐磨的有效手段. 但是随着技术的要求和应用领域的拓展, 在强腐蚀、高磨损等恶劣环境下, 常规的WC-Co系涂层已不能满足要求, 需要开发新的技术方法来提高涂层的综合服役性能. 人们通过研究WC-Co系涂层制备过程中粉末的流动性、球形度、粒度分布等参数以及喷涂工艺等方面来提高涂层的综合性能[5,6], 但效果并不理想. 稀土具有特殊的电子结构, 可作为各种性能的改良剂, 对合金表面有着优异的改良潜力, 为提高涂层的综合性能提供了新的研究思路[7~9].

本工作采用HVOF技术在Q345基体上制备了微米WC-12Co, 纳米改性WC-12Co和CeO2改性WC-12Co 3种涂层, 对比分析3种涂层在H2SO4环境下的耐腐蚀性能, 研究添加纳米CeO2对WC-Co涂层在H2SO4溶液中腐蚀行为的影响.

1 实验方法

1.1 喷涂粉末及喷涂工艺参数

实验采用的各粉末成分与尺寸见表1. 其中, CeO2改性WC-12Co粉末是微米WC-12Co粉末在球磨阶段加入1%(质量分数)纳米CeO2混合制成.

表1   喷涂粉末成分与尺寸

Table 1   Composition and particle size of powders

Powder Code WC-Co CeO2 Power size / μm WC size / μm
Micro WC-12Co C 100% - 30~60 1~2
Nano modified WC-12Co N 100% - 15~45 0.05~0.5
CeO2 modified WC-12Co Re 99% 1% 30~60 1~2

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采用GTV K2氧气助燃(低温)HVOF设备在Q345基体上制备涂层, 喷涂前采用60目的棕刚玉对试样表面进行喷砂粗化处理, 以增加涂层与基体的结合强度, 喷涂后涂层的厚度约为0.5 mm. 喷涂工艺参数为: O2流量900 L/min, 燃气流量23 L/h, 送粉量74 g/min, 喷涂距离350 mm.

1.2 粉末和涂层的测试表征

采用SUPRA 55型扫描电子显微镜(SEM)观察喷涂粉末和涂层的微观形貌; 使用DX-2000型X射线衍射仪(XRD)对涂层进行物相分析, CuKα, 管电压40 kV, 管电流30 mA, λ=0.154 nm, 扫描速率2°/min.

采用VK-9710激光共聚焦显微镜(LSCM)测定涂层的孔隙率, 在涂层截面上随机选取10个位置进行拍摄, 利用显微镜自带的VK Analyzer软件对涂层孔隙率进行计算分析, 取10个位置孔隙率的平均值作为涂层的孔隙率. 采用HXD-1000 TM型数字式显微硬度计测量涂层的硬度, 载荷1.96 N, 保荷时间15 s. 每种涂层选取10个位置进行测量, 结果取10次的平均值.

涂层的电化学测试在CS310型电化学工作站上进行, 采用传统的三电极体系: 辅助电极为Pt片电极, 参比电极为饱和甘汞电极, 工作电极为待测试样. 试样尺寸为8 mm×8 mm×5 mm. 测试前对工作面进行抛光处理, 非工作面以704硅胶封装. 测试所使用的腐蚀介质为1 mol/L H2SO4溶液, 实验温度25 ℃, 实验过程中极化曲线的扫描区间为相对于开路电位±1 V, 扫描速率0.125 mV/s.

浸泡实验的试样尺寸为8 mm×8 mm×5 mm, 实验前试样表面经过抛光处理, 然后用超声波清洗仪将试样清洗干净, 吹干后用精度为0.1 mg的FA1004分析天平称重, 结果取同一试样3次称量的平均值.

采用南大704硅胶对试样非涂层面进行密封, 并参照ASTM31-72标准对试样进行浸泡实验, 实验温度25 ℃, 试样在1 mol/L H2SO4溶液中的浸泡周期为168 h. 实验结束后, 将腐蚀产物清洗干净, 烘干后称重, 用失重法计算腐蚀速率. 采用VK-9710型LSCM和SUPRA 55型SEM观察分析涂层表面腐蚀形貌.

2 实验结果

2.1 粉末与涂层的微观形貌

3种喷涂粉末的微观形貌如图1所示. 可以看出, 3种粉末尺寸差别不大, 无明显团聚现象, 粒度分布为20~50 μm, 其中C粉末由规则的球形颗粒组成, 粉末表面疏松多孔 (图1a), N粉末为不规则的球形颗粒 (图1b), 其表面致密度比C粉末和Re粉末(图1c)高. Re粉末的球形度较差, 有少量的空心的粉末和破碎的粉末出现(图1c).

图1   3种粉末的SEM像

Fig.1   SEM images of C powder (a), N powder (b) and Re power (c)

3种涂层的截面形貌SEM像如图2所示. 由图2a, c和e可以看出, 采用超音速火焰喷涂所制备的3种涂层致密度高, 涂层与基体界面处无大裂纹和孔隙存在, 保证了涂层和基体良好的结合强度. 由图2b, d和f可以看出, 块状的WC颗粒弥散分布在Co黏结相中, 孔隙沿WC颗粒的边界分布. 与喷涂粉末WC粒子尺寸相比, N涂层中的部分WC颗粒在喷涂过程中发生了长大, 但大部分WC颗粒仍然保持细小(图2d); 对比图2b和f可以发现, Re涂层的WC颗粒的平均尺寸小于C涂层, 这表明添加CeO2能抑制WC颗粒的长大, 具有细化组织的作用. 测试结果表明, C涂层、N涂层和Re涂层孔隙率分别为0.376%, 0.62%和0.201%, 平均显微硬度分别为1083.68, 1239.28和1240.10 HV, 这表明添加CeO2既能降低涂层孔隙率, 提高涂层的致密度, 还能提高涂层的显微硬度, 并且其硬度比纳米改性涂层的硬度略高.

图2   3种涂层截面SEM像

Fig.2   Low (a, c, e) and high (b, d, f) magnified cross sectional SEM images of C coating (a, b), N coating (c, d) and Re coating (e, f)

图3为Re涂层表面形貌的SEM像. 可以看出, 涂层由熔化再凝固区和半熔化区组成, 表面粗糙不平, 并且存在一些孔隙(图3a), 涂层表面有絮状的结构存在(图3b). 文献[10]在HVOF纳米WC-17Co涂层中也发现了类似的絮状纳米结构, 并认为这种纳米结构可能是晶须. 本工作对这种絮状的纳米结构进行了EDS分析, 结果列于表2. 可以看出, 这种絮状纳米结构中含有Ce, 而其它区域未发现Ce的存在, 说明这种絮状纳米结构可能是CeO2, 稀土氧化物以絮状纳米结构存在于涂层的喷涂颗粒表面.

表2   絮状物的EDS分析结果

Table 2   EDS analysis results of floccules

Element Atomic fraction Mass fraction
C 38.93 18.50
O 33.33 12.38
Co 15.61 21.37
W 11.60 46.07

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图3   Re涂层的表面形貌

Fig.3   The surface (a) and local (b) morphologies of Re coating

2.2 涂层的物相分析

图4是3种涂层的XRD谱. 可见, 3种涂层的主要组成相是WC, 同时涂层中都有一定量的W2C和脆硬相Co6W6C生成, 说明这3种粉末在HVOF过程中均发生了不同程度的WC氧化脱碳现象. 姬寿长等[11]研究发现, W2C是在喷涂温度为1523 K(1250 ℃)以上时, 由WC分解反应生成. 而Co6W6C主要是在1050~1100 ℃的条件下由Co3W3C与WC和Co发生反应生成的[12]. 在热喷涂中, 影响脱碳的主要因素为: 粉末的性质、喷涂温度、喷涂速率和喷涂气氛等[13]. 由于HVOF的温度较低、喷涂速率快, 使得粒子在空中停留的时间短, 所以WC的脱碳程度并不严重, 在XRD谱中W2C和Co6W6C的衍射峰强度相对于WC衍射峰强度都极低. 因为CeO2含量较少, 所以在衍射谱中并没有检测到CeO2及其相关相.

图4   3种涂层的XRD谱

Fig.4   XRD spectra of three coatings

2.3 涂层的电化学行为

3种涂层在1 mol/L H2SO4溶液中的动电位扫描极化曲线如图5所示. 采用传统的Tafel外推法得到3种涂层的电化学腐蚀电位Ecorr、腐蚀电流密度icorr, 致钝电流密度iPP和维钝电流密度iP, 结果见表3. Ecorr表征材料在溶液中失去电子的难易程度, 电极电位越正表示越难以被腐蚀; icorr表征材料在腐蚀介质中的腐蚀速率, 一般腐蚀电流密度越小, 材料耐腐蚀性能越好; iPP为在材料表面形成钝化膜时, 活化-钝化的临界电流密度和稳定钝化区的电流密度, 表征了材料发生钝化反应的难易, iPP越小, 则材料表面越容易发生钝化; iP为在材料表面形成钝化膜后的腐蚀电流, 表征材料在钝化状态下的耐腐蚀能力, iP越小, 则材料耐腐蚀能力越强. 3种涂层在H2SO4溶液中均有钝化现象, 其中N涂层在-1~+1 V范围内还表现出了活化-钝化-过钝化行为. 3种涂层的Ecorr (Re涂层) >Ecorr (N涂层) >Ecorr (C涂层), 而icorr (Re涂层) <icorr (C涂层) <icorr (N涂层), 这表明Re涂层在活化区的耐腐蚀能力最强, 而N涂层最差. 3种涂层的活化区范围分别为309 mV (C涂层), 68 mV (N涂层) 和182 mV (Re涂层), C涂层的活化区范围最宽, 即腐蚀反应进行的范围最宽, 而N涂层和Re涂层则会较快地进入钝化区. N涂层的致钝电流密度和维钝电流密度在3种涂层中最大, 而Re涂层最小, 这表明在钝化区内N涂层的腐蚀反应速率最快, Re涂层最慢.

表3   涂层在1mol/L H2SO4溶液中的电化学参数

Table 3   Electrochemical parameters of coatings in the H2SO4 solution

Coating Corrosion potential Ecorr / mV Current density
icorr / (μAcm-2)
Initiating passivation current density iIP / (μAcm-2) Passivation current density iP / (μAcm-2)
C -734 5.92 116.3 70.3
N 47 9.37 377.2 220.3
Re 350 4.53 53.2 30.6

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图5还可以看出, N涂层在钝化区内发生较为激烈的波动, 说明其钝化膜并不是很稳定, 并且钝化膜在467 mV时发生过钝化, 钝化膜被击穿. 涂层在H2SO4溶液中出现了钝化现象, 这是因为Co黏结相被腐蚀后露出了氧化电位更高的WC相与腐蚀介质相接触, WC与H2SO4作用形成了WO3腐蚀产物覆盖在涂层表面, 阻碍了腐蚀介质对Co相的腐蚀, 使得腐蚀电流减小[14]. Re涂层在钝化开始阶段有3个明显的拐点, 说明初期的钝化膜并不是很稳定, 经历了生成-溶解-生成-稳定等阶段, 表明纳米CeO2的加入能改变钝化膜的生长方式, 生成稳定的钝化膜, 使涂层的iPP从116.3 μA/cm2降低到53.2 μA/cm2, iP从70.3 μA/cm2降低到30.6 μA/cm2, 对试样表面起到良好的保护作用. 综上所述, C涂层的Ecorr最低, 且活化区范围最宽, 表明其最容易发生腐蚀反应; N涂层的icorr最大, 在钝化区内iPP和iP也最大, 说明N涂层的腐蚀速率在3种涂层中是最大的, 耐腐蚀性能较差; Re涂层的Ecorr最高, 而icorr, iPP和iP最小, 表明Re涂层在1 mol/L H2SO4溶液中最不易发生腐蚀, 且容易钝化, 钝化后腐蚀电流密度也最小, 即其耐腐蚀性能最好.

图5   3种涂层在H2SO4溶液中的极化曲线

Fig.5   Polarization curves of coatings in 1 mol/L H2SO4 solution

2.4 涂层的浸泡腐蚀行为

表4给出了C, N和Re 3种涂层在1 mol/L H2SO4溶液中168 h浸泡腐蚀实验后的质量损失和腐蚀速率, N涂层的腐蚀速率为74.4 mg/(m2h), 是Re涂层的2倍、C涂层的1.5倍. 图6为涂层腐蚀前后的LSCM像. 可以看出, 3种涂层经过168 h腐蚀实验后表面均未出现大面积的深腐蚀坑, 其中, C涂层表面出现了黑斑状的腐蚀坑, 表面粗糙度增大 (图6b); N涂层表面粗糙度最大, 涂层表面出现了一些较深的腐蚀坑, 被腐蚀程度最大(图6d); 而Re涂层的表面最为光滑, 被腐蚀程度最小(图6f).

图6   3种涂层浸泡前后的LSCM形貌

Fig.6   LSCM images of coatings before (a, c, e) and after (b, d, f) immersion

(a, b) C coating (c, d) N coating (e, f) Re coating

3种涂层在1 mol/L H2SO4溶液中浸泡腐蚀前和浸泡后的表面微观形貌如图7所示. 经过168 h浸泡实验后, 3种涂层的表面被腐蚀的并不是特别严重, 说明WC涂层在H2SO4溶液中有优越的耐腐蚀性能. 图7a和b表明, C涂层在浸泡实验后, 其表面Co黏结相被腐蚀, 其中有几个区域被严重腐蚀: 方框区域由于Co黏结相分布集中而被严重腐蚀, 较大尺寸的WC颗粒发生了脱落, 形成腐蚀坑; 孔隙区域的Co黏结相被严重腐蚀, WC颗粒发生脱落, 孔隙尺寸变大. 图7c和d表明, N涂层腐蚀前后表面形貌变化非常明显, 涂层表面的Co黏结相几乎都被腐蚀, 露出WC颗粒, 而孔隙区域被腐蚀更为严重, 失去黏结相的WC颗粒发生脱落, 孔隙被连接在一起形成大的凹坑. 图7e和f表明, Re涂层被腐蚀的区域主要集中在孔隙处, Co黏结相被腐蚀后导致WC颗粒发生了脱落, 使孔隙演化成腐蚀坑, 而其它区域的Co黏结相并没有发生腐蚀. 由此可见, Re涂层耐腐蚀性能最好, 其腐蚀机制是由孔隙诱发的局部腐蚀, 孔隙处的Co黏结相不断被腐蚀导致WC颗粒失去了支撑作用而脱落, 从而露出新的Co黏结相, 促进了涂层的腐蚀, 使孔隙不断扩大形成腐蚀坑. 而C涂层和N涂层不仅最外层的Co黏结相被腐蚀, 而且在孔隙处发生了严重的局部腐蚀.

表4   涂层在1 mol/LH2SO4溶液中的浸泡质量损失

Table 4   Mass loss of the coatings in 1 mol/L H2SO4 solution

oating Mass variation
Δm / mg
Corrosion rate
Vc / (mgm-2h-1)
C 0.6 55.8
N 0.8 74.4
Re 0.4 37.2

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图7   涂层浸泡前后的表面形貌

Fig.7   Surface morphologies of coatings before (a, c, e) and after (b, d, f) immersion(a, b) C coating (c, d) N coating (e, f) Re coating

3 分析与讨论

综合本工作电化学腐蚀和浸泡腐蚀的验结果, WC涂层具有十分优异的耐强酸腐蚀性能, 并且添加了纳米CeO2改性的WC涂层耐腐蚀性能最好. 从3种涂层的腐蚀实验结果来看, 主要是涂层的Co黏结相被腐蚀, 特别是在孔隙周围区域, Co被严重腐蚀, 导致尺寸较大的WC颗粒缺少了黏结而脱落, 露出新的Co黏结相, 促进了涂层的腐蚀. 这是因为实验所用的H2SO4是一种非氧化性酸, 非氧化性酸的特点是腐蚀的阴极过程纯粹为氢去极化过程[15]. 涂层在稀H2SO4中的阳极过程是黏结相Co的溶解, 即Co→Co2+ + 2e-; 阴极过程是H+的还原, 即2H+ +2e-→H2. 同时, WC的电极电位要比Co的高[16], 相邻的Co黏结相和WC相之间很容易发生电偶腐蚀[17], 在腐蚀的过程中Co黏结相作为阳极而优先腐蚀, WC作为阴极而得到一定的阴极保护.

对比浸泡腐蚀实验前后的表面形貌可以看出, C涂层和N涂层表面各区域被腐蚀的程度并不一致, 除了Co黏结相分布不均匀外, 还因为WC涂层在喷涂过程中生成了W2C和Co6W6C, 徐亚伟等[18]认为, 对于多相材料而言, 相界处由于不同晶格匹配引起的点阵畸变等使活化能升高, 是腐蚀过程中最薄弱最活跃的位置, 所以多相结构导致涂层中不均匀的腐蚀速率. 对于Re涂层, 非孔隙区域的Co黏结相几乎没有被腐蚀, 这是由于稀土元素具有极强的化学活性, 一方面, 能与晶界中的杂质发生化学反应生成稳定的化合物, 起到净化晶界的作用[19,20]; 另一方面, Ce还能与Co发生反应生成金属间化合物, 不仅使Co黏结相和WC在相界处具有相近的电极电位, 降低了电偶腐蚀发生的倾向, 而且使涂层电极电位正移, 提高涂层的整体耐腐蚀性能. 此外, 纳米CeO2的添加可以成为钝化膜形核核心, 改变了钝化膜的形成和生长机制, 形成含稀土的致密钝化膜, 并改善钝化膜的特性[21~24], 使涂层的iPP从116.3 μA/cm2降低到53.2 μA/cm2, iP从70.3 μA/cm2降低到30.6 μA/cm2, 有效提高了涂层的耐腐蚀性能. 在3种涂层中, 孔隙区域往往是被腐蚀得最严重的地方, 这是由于孔隙的存在破坏了氧化膜的连续性, 造成孔隙周围电极电位高、孔隙处电位低, 组成了较强的电偶腐蚀; 同时, 孔隙给腐蚀介质提供了渗入涂层内部的通道, 增大了腐蚀面积. N涂层中, 由于WC颗粒细小, 增加了晶界的数量, 减少了阳极溶解, 因此其腐蚀电位较C涂层高, 但是由于N涂层喷涂粉末中的WC为纳米级, 比表面积大, 在喷涂的过程中容易过热, 并发生脱碳分解, 增加了涂层的孔隙率, 所以N涂层的耐腐蚀性能最差. 在Re涂层中, 稀土元素为表面活性元素, 它可以降低熔滴的表面张力, 提高融化粒子流动性, 并可以提高粒子与黏结相及粒子之间的相互润湿效果, 降低涂层的热膨胀系数, 减少涂层内应力, 从而降低Re涂层的孔隙率[25], 最终提高Re涂层的耐腐蚀性能.

4 结论

(1) 纳米CeO2改性WC-12Co涂层的孔隙率为0.201%, 显微硬度为1240.10 HV, 分别是微米WC-12Co涂层的0.53倍和1.14倍, 纳米改性WC-12Co涂层的0.32倍和1.00倍. 纳米CeO2的添加可以提高涂层的显微硬度, 降低涂层孔隙率, 有效减少局部腐蚀的发生.

(2) 纳米CeO2可以使涂层电极电位发生正移, 降低腐蚀电流密度, 生成稳定的钝化膜, 降低涂层的维钝电流密度, 提高涂层的耐腐蚀性能.

(3) 纳米CeO2改性WC-12Co涂层的腐蚀机制为由孔隙诱发的局部腐蚀, 孔隙处的Co黏结相不断被腐蚀导致WC颗粒失去了支撑作用而脱落, 从而露出新的Co黏结相, 促进了涂层的腐蚀, 使孔隙不断扩大形成腐蚀坑. 而微米WC-12Co涂层和纳米改性WC-12Co涂层不仅最外层的Co黏结相被腐蚀, 而且在孔隙处也发生了严重的局部腐蚀.



来源--金属学报

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